當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 化學機械拋光液制備設(shè)備 > 拋光液制備設(shè)備
產(chǎn)品分類
相關(guān)文章
NP-CMP化學機械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學機械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
化學機械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學機械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
歡迎您關(guān)注我們的微信公眾號了解更多信息