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化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備

簡要描述:化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

  • 產(chǎn)品型號:NP-CMP
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-12-20
  • 訪  問  量:2767

詳細(xì)介紹

化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備主要用于CMP(化學(xué)機(jī)械拋光液)(包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機(jī)械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學(xué)機(jī)械拋光液)的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機(jī)阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

化學(xué)機(jī)械拋光液制備設(shè)備的特點(diǎn):

經(jīng)過測試的工藝路線,已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)                    

智能控制,實(shí)時監(jiān)測,完整數(shù)據(jù)存儲,直觀顯示圖表

轉(zhuǎn)速可調(diào),溫度可控,超聲波強(qiáng)度可調(diào),可定時

操作方便簡潔,清洗容易  


技術(shù)參數(shù):

Items

實(shí)驗(yàn)型Experiment   Type

生產(chǎn)型Production   Type

溫度Temperature(℃)

-30~80

-20℃~80

分散方式Dispersion   Type

連續(xù)式continuous

連續(xù)式continuous

材質(zhì)Material   quality

玻璃不銹鋼、鈦   glass or   stainless steel

不銹鋼、鈦stainless   steel

規(guī)格Specification

依容積depend   on volume

定制customized

流量Flow   rate

50~1000ml/min

可定制customized

介質(zhì)粘度media   viscosity

104cP

104cP

攪拌轉(zhuǎn)速agitation   speed

500~3000rpm依實(shí)際需求選擇

500~3000rpm依實(shí)際需求選擇

剪切轉(zhuǎn)速agitation   speed

1400~20000rpm依實(shí)際需求選擇

1400~12000rpm依實(shí)際需求選擇

電源Power

220V/50Hz

220V/50Hz   、380V/50Hz

超聲功率Ultrasonic   power

200~3000W

定制customized

超聲頻率Ultrasonic   Frequency

20KHz、28KHz、40KHz、68KHz

20KHz28KHz、40KHz、68KHz

顯示方式Display   model

數(shù)顯、液晶觸摸屏digital   display,LCD   touch screen 依據(jù)需要可選擇

液晶觸摸屏LCD   touch screen

其它Others

溫度、功率可調(diào)Temperature、power   adjustment



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